TCAD overview
工艺计算机辅助设计（TCAD）指的是利用计算机模拟来开发和优化半导体加工工艺和器件性能。
新思科技的TCAD软件通过求解基本的物理偏微分方程，比如扩散和传输方程，可以对半导体器件的结构和电气性能进行建模。
这种基于物理模型的方法使得TCAD模拟能够在很大的技术范围内保证其预测的准确性。
因此，在开发和优化新的工艺和器件时，实践中TCAD模拟可用于减少昂贵、耗时的晶圆试验片的投入。
所有主流的半导体公司在它们的整个工艺开发周期内都使用新思科技的TCAD工具。
在工艺开发的早期阶段，新思科技的TCAD工具也能让工程师探索产品的替代设计，例如, 在实验数据不容易获得的情况下, 工程师仍然可以在软件中通过增强沟道迁移率，以达到满足器件性能指标的目的。
在工艺整合阶段，新思科技的TCAD工具能够让工程师进行分组模拟试验，例如，用于对工艺和器件性能进行优化的试验设计（DOE），这种方法可以减少在实际晶圆上进行的实际试验的次数，从而节省时间和费用。
在工艺投入使用后，新思科技的TCAD工具又可以在批量生产过程中提供一个先进的工艺控制机制，从而提升参数成品率。
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